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- ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。
常规Au /Pt 金靶
主要特点：
1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态；
2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得最佳镀膜效果；
3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；
4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用；
5. 根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。
配置参数：
靶（上部电极）：金：直径：50mm，厚度：0.12mm
真空样品室： 直径：160mm，高：120mm
样品台及工作距离：高配旋转样品台，简配固定样品台，高度手动调节
溅射面积： Ф50mm，最大放置
真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar
离子电流表： 最大电流：50mA(100mA)
定时器： 最长时间：900S
微型真空气阀： 可连接φ3mm软管
可通入气体： 多种
最高电压： -1600（-3000）DCV
机械泵： 2L/S （120L/min）
样品表面离子清洁（选配）
