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双靶磁控溅射仪

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    • 结构 (点击图片查看详细资料) 输入电源 220VAC 50/60Hz, 单相 2000W (包括泵) 溅射电源 安装有两个溅射电源 直流(DC)电源:500W,针对于制作金属膜 射频(RF)电源:600W,可制作氧化物和金属膜 同时可选配300W的射频电源 磁控溅射头 仪器中安装有2个磁控溅射头,而且都带有水冷夹层,可通入冷却水对靶材降温 其中一个溅射头与射频电源相连接,主要是溅射绝缘性靶材 另一个溅射头与直流电源相连接,主要溅射导电性靶材 靶材尺寸要求:金属靶:直径为50mm,zui大厚度1.5mm 陶瓷靶:直径为50mm,zui大厚度6mm 仪器中标配一个不锈钢靶和氧化铝陶瓷靶 溅射头所需冷却水:流速10ml/min(仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机) 也可以根据自己的要求选择2个射频溅射头或3个射频溅射头,订购前需于本公司销售人员 真空腔体 真空腔体:300 mm Dia x 300 mm h,采用不锈钢制作 观察窗口: 100 mm diameter 腔体打开方式采用上顶开,使得换靶更加容易 载样台 载样台尺寸:140mm dia.(zui大可放置4"的基底) 载样台可以旋转,其速度为:1 - 20 rpm (可调) 载样台zui高可加热温度为500℃,控温精度为+/- 1.0 °C 气体流量控制器 仪器内部安装有2个质量流量计 量程为:0-200sccm 气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作 真空泵系统 配有一套分子泵系统(德国制作),采用一键式操作 薄膜测厚仪 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据 外形尺寸 L1300mm× W660mm× H1200mm 重量 160 kg 质保期 一年质保期,终生维护 https://www.chem17.com/st152911/erlist_1290255.html http://www.kjmti.com.cn/Products-24006809.html
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