特長
- PID, Shallow scratch, COP,SFなど、ウェハ製造プロセスに起因するキラー欠陥の検出感度向上
- 63本のマルチレーザービームと新設計高速ステージによるハイスループット
- ミラーポリッシュウェハ、エピタキシャルウェハ、SOIウェハ、石英ウェハなどを高感度に検査可能
- コンフォーカル光学系による高速・高解像度レビュー機能
- ダイヤモンドチップによるダストフリーの欠陥位置マーキングが可能
- ウェハハンドリングは、2種類の仕様から選択可能
-出荷・受入検査用途:エッジグリップ・裏面非接触チャック
-評価解析用途:マルチサイズ(6,8,12inch)対応真空チャック
- FOUP,FOSB,オープンカセットに対応
※"MAGICS" はMultiple image Acquisition for Giga-bit pattern Inspection with Confocal Systemの略称です。
用途
- ウェハ製造プロセスの評価・改善
- ウェハの出荷・受入検査
- 研磨・洗浄剤等の材料開発
仕様
検査光源波長 |
532nm |
最高検出感度 |
50nm(ミラーポリッシュウェハ上のPSL) |
検査時間 |
22分 / 枚(300mmウェハ ノーマルスキャン) |
レビュー時間 |
2秒 / 点 |