三维MEMS形貌仪
主要特点
长工作距离确保足够的MEMS测试探针操作空间
全窗口范围测量
标准5X、10X、20X物镜
纳米级分辨率
价格适中
配置灵活
满足专业微系统研究人员测试需求
MEMScriptTM软件,可实现三维MEMS形貌测试,控制MEMS器件,分析器件特性,实时器件性能测量。
MEMScript 软件特点
相移干涉三维形貌测量(PSI)
振动波输出
Decision making capability (full logical branching)
频闪检查成像功能
简洁用户界面
光源亮度自动设定
提供GPIB外部设备控制界面
提供串口外部设备控制界面
兼容IntelliwaveTM软件
MATLAB, IDL, MS Excel,and LabVIEW软件界面


电压放大器选件 真空源&快门控制选件

定位物镜选件 垂直扫描VSI测量选件
大范围扫描,闭环控制
Optopro 622-A技术规格
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专利技术
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长工作距离干涉显微镜
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系统
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测试波长
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532 nm非相干光源
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放大倍率
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5X, 10X, 20X
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相机
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1/2" B&W Digital Camera
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探针显微定位单元
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Signatone (QTY:4)
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电压放大器
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EMOpto 4-channel (optional)
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防震台
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Vibraplane
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真空/快门
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VacPak
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Part Viewing
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实时视频显示器显示
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物镜
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放大倍率
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5x
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10X
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20X
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数值孔径
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0.14
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0.28
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0.42
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工作距离(mm)
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34.0
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33.5
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20.0
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聚焦长度(mm)
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40
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20
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10
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分辨率(µm)
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2.0
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1.0
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0.7
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聚焦深度(µm)
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14.0
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3.5
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1.6
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面内分辨率(nm)
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20
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10
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5
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聚焦分辨率(nm)
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+/- 5
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+/- 5
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+/- 5
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市场1- V x H(mm)
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1.32 x 1.80
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0.66 x 0.88
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0.33 x 0.44
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Note 1: for 2/3 inch CCD.
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电子控制单元
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功率
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Powered from Computer
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机械设计
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尺寸
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762 mm x 610 mm x 762 mm (30" x 24" x 30")
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重量
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68 kg (150 lb)
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环境要求
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温度范围
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15 to 30ºC
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温度变化率
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<1.0ºC per 15 min
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湿度
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Relative 5% to 95%, no condensing
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防震
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控制系统
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计算机
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Dell PC
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控制界面
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National Instruments
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软件
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MEMScriptTM
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经济型MEMS三维形貌仪 模块化MEMS三维形貌仪
