检测认证人脉交流通讯录
- 仪器名称：光刻机
- 价格型号：EVG620
- 仪器分类：刻蚀设备
- 应用领域：
- 所属单位：苏州生物医学工程技术研究所
- 所在地点：
- 产 地：
- 产 商：EVG
- 价 值：0
- 购置日期：0000-00-00
技术指标：1.基片尺寸： 2寸 到 150mm (直径) 或为3"×3" 到 6"×6"； 2.基片双面对准，键合预对准，紫外固化纳米压印； 3.光刻分辨率：<0.5微米； 4.套刻精度：<1微米； 5.曝光间距设置：0 到300 微米； 6.对版工作台运动范围：X:±10mm； Y: ±5mm； Theta: ±5°； 7.光源波长：435nm和365nm； 8.光源均匀性：<5%； 9.四种曝光方式(真空接触、低真空接触、软接触、硬接触)； 10.工艺参数可存储调用，节省再设置的时间并提高工艺的一致性。
仪器用途：对晶圆上光刻胶进行图形压印、紫外曝光操作
收费标准：800元/小时
机组负责人：周连群 0512-69588061 15262484019 zhoulq@sibet.ac.cn
