检测认证人脉交流通讯录
- 仪器名称：步进式光刻机
- 价格型号：NSR 1755i7B
- 仪器分类：其它
- 应用领域：
- 所属单位：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 所在地点：
- 产 地：
- 产 商：NIKON
- 价 值：0
- 购置日期：0000-00-00
技术指标：RESOLUTION：0.5μm LENS DISTORTION：≤0.9μm RETICLE ALIGNMENT ACCURACY：≤0.02μm STEPPING ACCURACY：≤0.08μm OVERLAY ACCURACY：≤0.15μm(X,Y) OPEN FLAME(MAX. EXPOSURE AREA)：17.5×17.5mm
仪器用途：把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上，分区域进行步进式曝光。本机台可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圆高精度投影曝光，曝光精度可达500nm。
收费标准：1200元/h,超净费用另附。
机组负责人：张嫔 0512-62872625 pzhang2008@sinano.ac.cn
