检测认证人脉交流通讯录
- 仪器名称：电子束曝光
- 价格型号：JBX-5500ZA
- 仪器分类：其它
- 应用领域：
- 所属单位：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 所在地点：
- 产 地：
- 产 商：JEOL
- 价 值：0
- 购置日期：0000-00-00
技术指标：请客户自行计算曝光时间，以此为依据预约时间。 曝光时间计算公式：曝光时间=曝光面积*曝光剂量/束流大小（束流大小一般为100PA） Accelerating voltage： 25/50 kV Minimum line width： 10 nm （50 kV?5th） Overlay Accuracy： 40 nm Field stitching Accuracy: 40 nm Exposure range： 直径75 mm Scan speed：12 MHz to 250 Hz
仪器用途：电子束曝光是利用某些高分子聚合物对电子敏感而形成曝光图形的，与光学曝光对应，其特点是将聚焦电子束代替光照以实现抗蚀剂（光刻胶）的曝光（改性）。在实验室广泛应用的电子束曝光机为矢量扫描高斯型系统，即：电子束斑为高斯线型，工作时采用矢量扫描方式。电子束曝光无需掩膜，可实现低至10nm线宽图形，是目前纳米技术研究中非常重要的纳米图形生成手段。
收费标准：800元/小时
机组负责人：张嫔 0512-62872625 pzhang2008@sinano.ac.cn
