中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

技术指标：样品大小： 1、标准片（φ2/4/6英寸）;2、小片（＜2寸大于10mm*10mm);3、晶圆厚度＜3mm。光刻胶类型： 1、AZ5214（厚度1.6~2.5μm，可反转）; 2、AZ6112（1.0~2.0μm，正胶）; 3、AZ4620（厚度8~30μm，正胶）; 4、双层（底层LOR10A，20B，30B）; 分辨率要求：1、大于1μm 2、小于1μm。对准要求：1、大于±1μm 2、小于±1μm。委托加工起约 1小时 +++++++++注意：12：00前预约2寸或者2寸以下的小片工艺（片子大于10mm*10mm），12:00后预约2、3、4、6整片工艺+++++++++ 工艺参数填写完整：片子大小、光刻胶类型，如未填写，审核时不予以通过！光刻预约必须预约者本人到场做工艺，不可他人替代。

仪器用途：宽带光源，紫外接近，接触式光刻，可实现双面对准。最大曝光面积φ150mm。分辨率：2μm。套刻精度：±1μm。 +++++++++注意：12：00前预约2寸或者2寸以下的小片工艺（片子大于10mm*10mm），12:00后预约2、3、4、6整片工艺+++++++++ 工艺参数填写完整：片子大小、光刻胶类型，如未填写，审核时不予以通过！光刻预约必须预约者本人到场做工艺，不可他人替代。委托加工起约 1小时

收费标准：400/30分钟

机组负责人：张嫔  051262872625  pzhang2008@sinano.ac.cn