检测认证人脉交流通讯录
- 仪器名称：磁控溅射
- 价格型号：LAB18
- 仪器分类：其它
- 应用领域：
- 所属单位：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 所在地点：
- 产 地：
- 产 商：KURT LESKER
- 价 值：0
- 购置日期：0000-00-00
技术指标：溅射速率0.1A/s-10A/s; 反溅射功率0-200W; 溅射功率50-500W; 溅射厚度： 普通金属（Ni、Al、Ti、Ag、Cr、Cu）5nm-2000nm; 贵重金属（Pt、Au、Pd）5nm-500nm; 气体（Ar、O2、N2）; 流量范围0-100 sccm; 背底真空：8E-6 Torr; 温度：20-400 ℃;
仪器用途：主要用于溅射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW、Pd、Pt、Zn等金属薄膜，AlN、SiO2等介质薄膜，一次可溅射两寸片5片，四寸片和六寸片1片，向下尺寸兼容，薄膜不均匀性≤±5%。为不影响他人工艺，以及有充足的时间对设备进行维护，氧化物溅射工艺只安排在周五、周六进行。每日18:00-19:00时为加班人员短暂休息和用餐时间，涉及到贵重金属的使用，工艺时需有工作人员在场，非工艺特别赶的情况，请尽量避开预约此段时间。 1.5小时起预约。
收费标准：450元/小时+300元/次工艺＋材料费: 50元/10nm(Au及合金、Pd)或75元/10nm(Pt) 或50元/100nm (其它材料)
机组负责人：张嫔 0512-62872625 pzhang2008@sinano.ac.cn
