中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

技术指标：装片：一片六英寸衬底、或1片四英寸，向下兼容。电源：配备射频（0-1kw）和直流（0-3kw）各一套。真空配置：机械泵+分子泵极限真空：1.8E-7mbar 基片温度：室温，连续淀积累积温度可达200℃ 阴极5个靶位，靶材尺寸8英寸。淀积材料：Al、Au、Cu、Cr、Ti、TiW（至少提前1天同工程师预约）

仪器用途：在一相对稳定真空状态下，阴阳极间产生辉光放电，极间气体分子被离子化而产生带电电荷，其中正离子受阴极之负电位加速运动而撞击阴极上之靶材，将原子等粒子溅出，溅出的粒子则沉积于阳极的基板上而形成薄膜。磁控溅射是在阴极靶的表面上方形成一个正交电磁场，由于外加磁场的存在，电子的复杂运动增加了电离率，实现了高速溅射。 0.5小时起预约。由于加班时无人员轮换，每日18:00-19:00时为加班人员短暂休息和用餐时间，涉及到贵重金属的使用，工艺时需有工作人员在场，非工艺特别赶的情况，请尽量避开预约此段时间。

收费标准：1000元/小时+300元/次工艺＋材料费: 30元/10nm(Au及合金、Pd等)或20元/100nm (其它材料)

机组负责人：张嫔  0512-62872625  pzhang2008@sinano.ac.cn