检测认证人脉交流通讯录
- 仪器名称：等离子去胶机
- 价格型号：M4L
- 仪器分类：其它
- 应用领域：
- 所属单位：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 所在地点：
- 产 地：
- 产 商：PVA TEPLA
- 价 值：0
- 购置日期：0000-00-00
技术指标：技术参数：型号：M4L 整机尺寸：820mm×730mm×820mm（长×宽×高） 反应室尺寸：330mm×229mm×508mm（宽×高×深） 电极板：3层或5层可抽卸平板电极或笼式电极 射频电源：13.56MHz，0 ~ 600W 匹配网络：阻抗自动匹配 气路系统：标准配置为2路工艺气体，500SCCM，最多可扩展至4路。 操作系统：PC全自动操作或手动操作，LCD触摸屏控制主要特点：（1）PC全自动操作，保证了工艺参数的高可控性、高精度以及工艺的高可重复性。 （2）LCD触摸屏控制，设备实际运行中的射频功率、气体流量、压力、工艺时间等参数都时时显示在触摸屏上，便于监测和控制，也可通过以太网实现远程操作和监控。 （3）安全连锁报警系统，用户自定义错误提示信息，避免设备任何的带错运行。 （4）0 ~ 600W 射频功率，自动匹配，适用于处理不同材质的样品。 （5）3层可抽卸平板电极或笼式电极，可处理各种不同尺寸、形状的样品。 （6）标准配置为2路工艺气体，500SCCM，最多可扩展至4路不同的工艺气体，工艺可选择范围更广。 （7）干法处理工艺，无须任何化学试剂，安全、绿色、环保。
仪器用途：（1）精密电子原件、光学原件等表面的超精密清洁。 （2）生物芯片、传感器、纳米材料、聚合物表面的改性和活化。 （3）医疗器械、诊断装置的改性和活化。 （4）印刷电路板（PCB）中的整孔、去胶渣。 （5）太阳能电池片的边缘刻蚀
收费标准：75元/30分钟
机组负责人：张嫔 0512-62872625 pzhang2008@sinano.ac.cn
