检测认证人脉交流通讯录
- 仪器名称：快速退火炉
- 价格型号：RTP500
- 仪器分类：其它
- 应用领域：
- 所属单位：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 所在地点：
- 产 地：
- 产 商：定制
- 价 值：0
- 购置日期：0000-00-00
技术指标：1、最大温度范围150℃-1350℃，限定使用温度范围150℃-900℃，900℃退火使用时间30s左右；600℃――900℃,最长退火时间180s，具体酌情而定。600℃及以下温度允许使用30min。 2、升温速率0.01-180℃/秒，可预设定 3、密封石英盒尺寸：210×140×14mm 4、PC机控制。 5、可编程温度曲线存储500条以上，每条曲线可包括50段以上，温度设定范围100℃-1300℃时间设定范围1-30000秒 6、实时温度曲线，显示及存储功能，存储实验曲线500条以上。 7、手动控制：时间设定范围1-9999秒，温度设定范围100-1300℃ 8、双闭环温度控制，稳态温度稳定性±2℃ 9、光源：1.25KW×13卤钨灯 10、电源：380V 32A 3相 11、外形尺寸：电源箱440×200×520mm
仪器用途：快速热处理技术（RTP）可用于硅及化合物半导体材料离子注入后的缺陷消除/激活杂质，硅化物形成，欧姆/肖特基接触的制备以及快速氧化/氮化，消除薄膜应力，提高薄膜附着性等方面。该设备具有很好的长时间工作稳定性以及快速升降温，慢速升降温的功能，因此也可用于各种半导体材料PVD/CVD工艺的热处理。
收费标准：160元/小时,O2工艺200元/小时，O2流量不得大于2.5L/min
机组负责人：张嫔 0512-62872625 fyang2010@sinano.ac.cn
